Nanah pada luka pascapersalinan terutama merupakan perubahan patologis yang disebabkan oleh infeksi seperti Staphylococcus aureus pada sayatan lateral atau sayatan caesar karena pembedahan yang tidak tepat, perawatan luka yang tidak tepat, pencairan lemak, penolakan benang, dll. Terlepas dari apakah persalinan dilakukan secara normal atau bedah caesar, ibu yang baru melahirkan dapat memicu infeksi luka, peradangan, dan septikemia. Tergantung pada cara persalinan, penyebab peradangan dan nanah pada luka berbeda-beda, tetapi apa yang harus dilakukan terhadap nanah pada luka setelah melahirkan? 1, pengobatan nanah: jika ibu baru menemukan bahwa lukanya memiliki fenomena nanah, situasinya ringan, hal pertama yang harus dilakukan untuk mengeringkan nanah, gunakan garam, yodium volt, hidrogen peroksida, dll. Terpapar sepenuhnya untuk menyiram luka, untuk menghindari infeksi luka lebih lanjut; 2, pengobatan oral: di bawah bimbingan dokter, ibu baru bisa minum obat antibiotik oral, tapi jangan mudah mengobati sendiri, pada masa menyusui, pengobatan di semua aspek untuk berkonsultasi Alasan utama infeksi luka pascapersalinan dan nanah berhubungan langsung dengan perawatan dan pembedahan sehari-hari, ibu baru harus menjaga kebersihan diri saat duduk di bulan, teori bahwa bulan tidak bisa mandi sudah lama ditinggalkan, kebersihan diri yang baik tidak hanya kondusif untuk pemulihan luka mereka sendiri, tetapi juga kondusif untuk kesehatan bayi; 4, jika infeksi luka lebih serius, nanah atau bahkan bisul luka bisa terjadi. Jika infeksi luka lebih serius, dengan nanah atau bahkan bisul, harus dirawat di rumah sakit standar, dan metode perawatan harus dipilih sesuai dengan kondisi luka yang berbeda. Wanita juga harus memperhatikan pola makan selama masa menstruasi, makanan berbulu, pedas, menjengkelkan, tidak bisa dikonsumsi selama periode ini, agar tidak memperparah radang luka, sehingga dalam jangka waktu yang lama sulit menyembuhkan luka, untuk menghindari radang luka dan nanah, untuk mencegah timbulnya masalah sebelum terjadi.